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荷蘭擴大對光刻機管制 中方籲尊重市場原則契約精神

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2024-09-08 15:07 |

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  香港中通社9月8日電 荷蘭6日宣布,在2023年半導體出口管制措施的基礎上,進一步擴大對光刻機的管制範圍。中方8日對此表示不滿。

  中國商務部新聞發言人當天表示,中方注意到荷方相關情況。近來,中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。近年來,美國為維護自身全球霸權,不斷泛化國家安全概念,脅迫個別國家加嚴半導體及設備出口管制措施,嚴重威脅全球半導體產業鏈供應鏈穩定,嚴重損害相關國家和企業正當權益,中方對此堅決反對。

  發言人表示,荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發,尊重市場原則和契約精神,避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展,不濫用出口管制措施,切實維護中荷企業和雙方共同利益,維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。

  荷蘭6日公布出口管制新規,規定該國半導體設備製造商阿斯麥(ASML)須向荷蘭政府申請出口許可證,才能將公司舊款深紫外浸沒式光刻系統運往中國。新規則已於7日生效。此前,阿斯麥首席執行官克里斯托夫·富凱4日曾表示,美國以國家安全的名義限制該公司向中國客戶出口產品,但動機已越來越趨於“經濟考慮”。(完)

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