中國國產光刻機工廠落地雄安？中國電子院回應了分享到：
      香港新聞網9月19日電 近期，中國各大視頻平台瘋傳一條消息稱清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化，實現了光刻機國產化，并表示這個項目已經在雄安新區落地。還在視頻中配了這樣一張圖，表示圖片中的項目就是光刻廠。對此，微信公眾號“中國電子院”9月18日發佈信息闢謠稱，該項目并非網傳的國產光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目（HEPS）。
網絡上流傳的圖片。圖自微信公眾號“中國電子院” 中國電子院介紹道，HEPS坐落於北京懷柔雁棲湖畔，是中國“十三五”重大科技基礎設施。它是中國第一台高能量同步輻射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一，早在2019年就開始建設，將於2025年底投入使用。
北京高能同步輻射光源項目實拍圖。圖自微信公眾號“中國電子院” HEPS的作用是通過加速器將電子束加速到6GeV，然後注入周長1360米的儲存環，用接近光速的速度保持運轉。 電子束在儲存環的不同位置通過彎轉磁鐵或者各種插入件時，就會沿著偏轉軌道切線的方向釋放出穩定、高能量、高亮度的光，也就是同步輻射光。（見下圖）
圖自微信公眾號“中國電子院” 簡單的說，HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機。它產生的小光束可以穿透物質、深入內部進行立體掃描，從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界。因此HEPS是進行科學實驗的大科學裝置，并不是網傳的光刻機工廠。 該項目由中國勘察設計大師、國投集團首席科學家婁宇帶隊，中國電子院多個技術科研和設計團隊協同合作。 從項目可研立項到項目落地，中國電子院攻克了多項技術和工藝難關，解決了項目不均勻沉降、微振動控制、超長結構設計、光伏板設計、精密溫度控制、工藝循環冷卻水系統、超複雜工藝系統等七大技術難題，實現了重大技術突破，指標控制達到了國際先進水平。 目前高能同步輻射光源配套工程已全面完工，向產生世界最“亮”的光又更近了一步。（完） 【編輯：許豐悅】
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